晶片光刻龍頭ASML六展進博，2025年中國區銷售額佔比回撥至20%

2024年11月5日-10日，第七屆中國國際進口博覽會（進博會）將在國家會展中心（上海）舉行。

本屆進博會期間有77個國家和國際組織參加國家展，129個國家和地區的近3500家展商參加企業展，其中吸引297家世界500強和行業龍頭企業參展，數量均超過上屆。整體展覽展示面積將超過42萬平方米，共有152個國家、地區和國際組織參加國家展和企業展。

作為荷蘭晶片光刻機龍頭企業，ASML（阿斯麥）第六次參加進博會，以互動式數字化形式重點展示其融合光刻機臺、計算光刻和量測的全景光刻解決方案。

會前交流時，ASML方面向鈦媒體App表示，對於已經交付或安裝在中國客戶工廠的先進的浸潤式DUV系統，目前需要申請出口許可證，才能為受到出口管制影響的系統提供服務，荷蘭政府將決定授予或拒絕ASML的許可證申請。而對於未受到出口管制措施影響的光刻裝置，公司仍可以照常提供服務。

ASML提到，過去一段時間內，ASML中國淨系統銷售額佔全球收入比重較高，曾一度達46%，這是因為，過去幾年ASML未能滿足中國市場的全部需求，與此同時其他地區客戶的需求時間節點發生了變化，這使ASML能夠向中國客戶交付更多裝置。所以，中國地區的交付量在增加，同時其他地區在減少，就導致中國地區淨系統銷售額佔比的上升。根據最新2024年第三季度財報，預計明年ASML中國地區銷售額（淨系統銷售和裝機售後服務）將逐漸迴歸歷史佔比水平，佔全球總收入的20%左右。隨著訂單的交付，中國客戶的需求逐漸得到滿足，而且非中國地區的市場回暖，20%是中國市場業務的一個合理的佔比數字，該數字與ASML未交付訂單的中國區份額保持一致。

“在合法合規的前提下，我們將盡最大努力為客戶提供服務。”ASML方面表示。

當前，全球半導體產業鏈處於緩慢復甦週期，晶片裝置公司業績持續調整。

今年10月16日，ASML釋出2024財年第三季度財報顯示，淨銷售額為75億歐元，高於預期目標，這主要得益於DUV光刻系統銷售和裝機售後服務的增加。該季度毛利率為50.8%，低於上一季度，淨利潤達21億歐元。

但同時，ASML新增訂單金額達26億歐元，比市場預期的54億歐元減少近一半，其中14億歐元為EUV光刻機訂單，這意味著ASML的新增訂單規模開始放緩，中國市場遭遇多輪出口管制是關鍵因素之一。

實際上，自1988年交付首臺步進式光刻機以來，今年也是ASML深耕中國市場的第36年。

今年進博會上，ASML著重介紹全景光刻解決方案下的三款應用廣泛的DUV光刻機和一款新型的電子束量測裝置，以及計算光刻業務：

DUV 產品：NXT:1470和NXT:870，這兩款從XT氣浮平臺升級至NXT磁浮平臺的乾式DUV產品，能為客戶顯著提升產能並降低單位成本；其中NXT:1470 是ASML 第一款應用NXT平臺，並實現每小時晶圓產量（wph）達300片以上的乾式DUV機臺；XT:260，即將推出的XT:260機臺是基於ASML獨有的雙工作臺技術，採用業界公認的XT4平臺，具有雙倍視場曝光的i-line光刻系統。該產品能夠有效提升效能並降低單片晶圓成本，可支援從先進封裝到主流市場的的廣泛應用和發展趨勢。

量測裝置：eScan 1100是ASML第一代實現線上缺陷檢測（物理缺陷和電性缺陷）的多束電子束檢測系統，具有25條光束，可將晶圓量測吞吐量提高至單束量測系統的10倍以上。

計算光刻業務：計算光刻主要應用於晶片的開發與製造環節，透過最佳化成像光源與掩模板設計，實現更精確的圖形成像和更好的晶片生產良率。

此外，在生成式 AI 方面，ASML表示，AI相關高頻寬記憶體（HBM）和第五代雙倍資料速率隨機存取儲存器（DDR5）的需求旺盛，推動了對裝置的需求。同時，ASML內部正在探索可行的應用範圍，積極嘗試新技術和創新帶來的體驗。

ASML全球執行副總裁、中國區總裁沈波表示：“今年是我們第六次參加進博會。每年一度的進博盛會持續體現了中國擴大開放、推動合作的承諾，其傳遞的‘共享未來’理念與ASML的企業文化高度契合。藉助此次進博會，我們希望進一步增強行業內外對於ASML全景光刻解決方案的認知。”

ASML預計，半導體市場的復甦程序比此前的預期緩慢，2024年第四季度ASML的淨銷售額將達88億-92億歐元之間，毛利率介於49%-50%，其中包括經客戶驗收後首次確認收入的兩臺High NA極紫外光刻系統。因此，2024年全年，ASML的淨銷售額為280億歐元左右。

預計到2025年，ASML總淨銷售額將增長到300億到350億歐元之間（此前指引為300-400億歐元），毛利率介於51%到53%之間，遠低於此前公司預測值。